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reactive ion beam etching中文是什么意思

  • 反应离子束刻蚀

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  • 例句与用法
  • Reactive ion beam etching system ribe system
    反应性离子束蚀刻系统
  • The feasibility that kaufman ion source is applied in reactive ion beam etching is discussed . etching characteristics of materials , including pr , cr , quartz , are investigated . the etch rate and mechanisms of such materials are measured and analyzed as a function of ion energy , ion beam density and ion incidence angle in pure ar and chf3 , respectively . the etch rate has shown a square root dependence on variation versus
    深入研究了光刻胶、铬薄膜、石英等光学材料离子束刻蚀特性,分别以ar气和chf3为工作气体,研究光刻胶、铬薄膜、石英等的刻蚀速率随离子能量,束流密度和离子入射角度的变化关系,得到刻蚀速率与影响因素的拟合方程,为掩模的制作工艺路线提供了实验依据和理论指导。
  • 其他语种释义
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